发明名称 OPTICAL ELEMENT LITHOGRAPHIC APPARATUS INCLUDING SUCH AN OPTICAL ELEMENT DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY
摘要 <p>광학 요소는, 제 1 재료를 포함하며 제 1 파장의 방사선에 대해 실질적으로 반사적이고, 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적으로 구성되는 제 1 층(4)을 포함한다. 광학 요소는, 제 2 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 흡수적 또는 투과적으로 구성되는 제 2 층(2)을 포함한다. 광학 요소는, 상기 제 1 층과 상기 제 2 층 사이의 제 3 재료를 포함하며 상기 제 2 파장의 방사선에 대해 실질적으로 투과적이고 상기 제 1 층과 대향되는 상기 제 2 층의 최상부 표면으로부터 상기 제 2 파장의 방사선의 반사를 저감시키도록 구성되는 제 3 층(3)을 포함한다. 상기 제 1 층은 상기 제 2 층에 대한 입사 방사선의 광학 경로에서 상류에 배치되어 상기 제 1 파장의 방사선의 스펙트럼 순도를 향상시킨다.</p>
申请公布号 KR101561999(B1) 申请公布日期 2015.10.20
申请号 KR20107021537 申请日期 2009.02.24
申请人 发明人
分类号 G02B5/20;G02B5/22;G03F7/20;G21K1/06 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人
主权项
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