发明名称 EXPOSURE SYSTEM AND DEVICE PRODUCTION METHOD
摘要 액침법에 기초하는 노광 처리 및 계측 처리를 고정밀도로 실시할 수 있는 노광 장치를 제공한다. 노광 장치 (EX) 는 투영 광학계 (PL) 의 이미지면측에 액체 (LQ) 의 액침 영역 (AR2) 을 형성하고, 투영 광학계 (PL) 와 액침 영역 (AR2) 의 액체 (LQ) 를 개재하여 기판 (P) 을 노광하는 것으로서, 액침 영역 (AR2) 을 형성하기 위한 액체 (LQ) 의 성질 및 성분 중 적어도 어느 일방을 계측하는 계측 장치 (60) 를 구비하고 있다.
申请公布号 KR101561796(B1) 申请公布日期 2015.10.19
申请号 KR20147025197 申请日期 2005.06.07
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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