| 发明名称 |
NEW ANTIOXIDANTS FOR POST-CMP CLEANING FORMULATIONS |
| 摘要 |
<p>본 발명은 위에 화학 기계적 연마(CMP)후 잔류물 및 오염물을 갖는 마이크로전자 장치로부터 상기 CMP후 잔류물 및 오염물을 세정하기 위한 세정 조성물 및 방법에 관한 것이다. 그 조성물은 저-k 유전체 물질 또는 구리 인터커넥트 물질을 손상시키는 일 없이 마이크로전자 장치의 표면으로부터 CMP후 잔류물 및 오염물의 효과적인 세정을 고도로 달성한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101561708(B1) |
申请公布日期 |
2015.10.19 |
| 申请号 |
KR20097026414 |
申请日期 |
2008.05.16 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
C09K13/00;C11D1/62;C11D3/30 |
主分类号 |
C09K13/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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