发明名称 半导体结构及其形成方法;SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND METHOD FOR FORMING THE SAME
摘要 在实施例中提供一种半导体结构及其形成方法。半导体结构包括第一基板及金属垫形成在第一基板上。半导体结构还包括晶种层形成在金属垫上及导体柱形成在晶种层上。此外,晶种层具有侧壁及底表面,且晶种层的侧壁及底表面之间的角度介于约20度至约90度。 A semiconductor structure and a method for forming the same are provided. The semiconductor structure includes a first substrate and a metal pad formed over the first substrate. The semiconductor structure further includes a seed layer formed over the metal pad and a conductive pillar formed over the seed layer. In addition, the seed layer has a sidewall and a bottom surface, and an angle between the sidewall and the bottom surface of the seed layer is in a range from about 20°
申请公布号 TW201539687 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW103145404 申请日期 2014.12.25
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 李立国 LEE, LI GUO;刘宜臻 LIU, YI CHEN;刘永盛 LIU, YUNG SHENG;赖怡仁 LAI, YI JEN;陈俊仁 CHEN, CHUN JEN;郑锡圭 CHENG, HSI KUEI
分类号 H01L23/488(2006.01);H01L23/522(2006.01) 主分类号 H01L23/488(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 TW