发明名称 发光装置及剥离方法;LIGHT-EMITTING DEVICE AND PEELING METHOD
摘要 提供一种挠性装置。另外,提供一种能够承受反复弯曲的挠性装置。将构成挠性装置的黏合层的硬度设定为高于邵氏D70,较佳为邵氏D80以上。将构成挠性装置的挠性基板的膨胀系数设定为小于58ppm/℃,较佳为30ppm/℃以下。
申请公布号 TW201539779 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW104105079 申请日期 2015.02.13
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 发明人 作石达哉 SAKUISHI, TATSUYA;内田裕 UCHIDA, YUTAKA;安达広树 ADACHI, HIROKI;江口早纪 EGUCHI, SAKI;谷中顺平 YANAKA, JUNPEI;熊仓佳代 KUMAKURA, KAYO;保本清治 YASUMOTO, SEIJI;横山浩平 YOKOYAMA, KOHEI;千田章裕 CHIDA, AKIHIRO
分类号 H01L33/00(2010.01);H01L51/52(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2010.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP