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发明名称
金属氧化物半导体场效电晶体结构及其制造方法;MOSFET STRUCTURE AND FORMING METHOD THEREOF
摘要
提供一种金属氧化物半导体场效电晶体结构之制造方法。在此方法中,形成一磊晶层。在磊晶层上方形成一盖层。在磊晶层上方形成一第一沟槽。在第一沟槽内沉积一保护层。此保护层的材料择自于由锗及矽锗所组成的群组。
申请公布号
TW201539760
申请公布日期
2015.10.16
申请号
TW103146033
申请日期
2014.12.29
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人
傅劲逢 FU, CHING FENG;严佑展 YEN, YU CHAN;柯志欣 KO, CHIH HSIN;李俊鸿 LEE, CHUN HUNG;林焕哲 LIN, HUAN JUST;张惠政 CHANG, HUI CHENG
分类号
H01L29/78(2006.01)
主分类号
H01L29/78(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 TW
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