发明名称 |
单一多晶矽层非挥发性记忆体的阵列结构;ARRAY STRUCTURE OF SINGLE-PLOY NONVOLATILE MEMORY |
摘要 |
一种单一多晶矽层非挥发性记忆之阵列结构,包括:一第一多次程式区块、一第二多次程式区块与一第一一次程式区块。第一多次程式区块连接至一第一字元线、一第一源极线、一第一抹除线与复数条位元线;一第二多次程式区块连接至一第二字元线、一第二源极线,其中该第二多次程式区块与该第一多次程式区块分享该第一抹除线与该些位元线;以及一第一一次程式区块连接至一第三字元线,其中该第一一次程式区块与该第一多次程式区块分享该第一源极线与该些位元线。 |
申请公布号 |
TW201539720 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
申请号 |
TW103137200 |
申请日期 |
2014.10.28 |
申请人 |
力旺电子股份有限公司 EMEMORY TECHNOLOGY INC. |
发明人 |
陈纬仁 CHEN, WEI REN;李文豪 LEE, WEN HAO |
分类号 |
H01L27/115(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
祁明辉叶明源 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学园区园区二路47号305室 TW |