发明名称 半导体结构及其制造方法;SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 半导体结构包含位于基板上方的传导凸块,以及被该传导凸块环绕的延伸铁磁件,该延伸铁磁件包含第一端与第二端并且从该第一端延伸至该第二端,该延伸铁磁件系实质垂直于该基板,以使该传导凸块位于该基板的预定位向与预定位置。再者,制造半导体结构的方法包含提供基板、在该基板内形成传导凸块、施加电流流经该导电迹线以产生电磁场,以及响应该导电迹线产生的该电磁场,使含有延伸铁磁件的传导凸块位于基板上方的预定位向与预定位置。
申请公布号 TW201539595 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW103145150 申请日期 2014.12.24
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY LTD. 发明人 缪佳君 MIAO, CHIA CHUN;梁世纬 LIANG, SHIH WEI;王彦评 WANG, YEN PING;吴凯强 WU, KAI CHIANG;刘明凯 LIU, MING KAI
分类号 H01L21/58(2006.01);H01L21/60(2006.01);H01L23/50(2006.01);H01L23/522(2006.01) 主分类号 H01L21/58(2006.01)
代理机构 代理人 冯博生
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 TW