发明名称 切晶膜、切晶黏晶膜及半导体装置之制造方法
摘要 本发明提供一种利用即使在低温下之扩展亦能引发半导体晶圆、或黏晶膜之断裂之切晶膜,及具备其之切晶黏晶膜及使用该等膜之半导体装置的制造方法。一种切晶膜,其系具备基材及设置于该基材上之黏着剂层者,且将由于MD方向及TD方向各自以0℃下负荷延伸应力时之应力-应变曲线求出的MD方向之储存弹性模数设为E'MD1、TD方向之储存弹性模数设为E'TD1之情形时,E'MD1/E'TD1为0.75以上且1.25以下。
申请公布号 TW201539586 申请公布日期 2015.10.16
申请号 TW104109052 申请日期 2015.03.20
申请人 日东电工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION 发明人 木村雄大 KIMURA, YUTA;三隅贞仁 MISUMI, SADAHITO;村田修平 MURATA, SHUHEI;大西谦司 ONISHI, KENJI;宍户雄一郎 SHISHIDO, YUICHIRO
分类号 H01L21/52(2006.01);C09J7/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 H01L21/52(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP