成膜方法及热处理装置

摘要

本发明系一种成膜方法，其系于处理容器内之处理室中之基板上形成低介电常数膜者，该成膜方法中：于处理容器内的、设置于处理室之上方之电浆生成室中，至少供给稀有气体，使用微波而生成电浆；经由遮蔽部，自电浆生成室对处理室供给粒子，对该处理室供给前驱物气体，从而于基板上形成低介电常数膜，该遮蔽部系设置于电浆生成室与处理室之间、具有使该电浆生成室与该处理室连通之复数个开口、并且对紫外线具有遮蔽性；其后，对该基板进行加热处理。