用于精确光阻轮廓预测之模型;MODEL FOR ACCURATE PHOTORESIST PROFILE PREDICTION

摘要

一种光阻模型化系统包含用于一光微影程序之一数学模型。可使用一电脑处理器执行该数学模型。该数学模型可用于将一光阻模型化为形成于一半导体晶圆表面上。一嵌段聚合物浓度梯度方程式可实施至该数学模型中。该嵌段聚合物浓度梯度方程式可描述由该数学模型模型化之该光阻中之一嵌段聚合物之一初始浓度梯度。