钴前驱物;COBALT PRECURSORS

摘要

兹描述可应用到气相沉积钴至基板上的钴前驱物，例如用于原子层沉积(ALD)和化学气相沉积(CVD)制程来形成内连线、覆盖结构和大块钴导体，以制造积体电路和薄膜产品。