| 发明名称 |
用于准分子雷射退火之控制之监控方法及装置;MONITORING METHOD AND APPARATUS FOR CONTROL OF EXCIMER LASER ANNEALING |
| 摘要 |
一种方法系被揭露可评估一藉照射来自一准分子雷射之脉冲而结晶化的矽层。该结晶化会在该结晶层上造成周期性特征，乃取决于该层所被曝露之该等脉冲中的能量密度ED和数目。该层之一区域系被以光照明。该照明区域之一显微镜影像系由来自该照明区域被该等周期性特徴绕射的光所造成。该显微镜影像包含对应的周期性特徴。该ED系由该显微镜影像中之该等周期性特徴的对比之一测量值来决定。 |
| 申请公布号 |
TW201539551 |
申请公布日期 |
2015.10.16 |
| 申请号 |
TW104106291 |
申请日期 |
2015.02.26 |
| 申请人 |
科希伦激光有限两合公司 COHERENT LASERSYSTEMS GMBH & CO. KG |
发明人 |
范德韦特 保罗 VAN DER WILT, PAUL |
| 分类号 |
H01L21/268(2006.01);H01L21/20(2006.01);B23K26/062(2014.01) |
主分类号 |
H01L21/268(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
恽轶群陈文郎 |
| 主权项 |
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| 地址 |
德国 DE |
