发明名称 CLEANING GAS AND CLEANING METHOD
摘要 본 발명은, 적어도 일부가 그라파이트 구조를 가지는 탄소로 이루어지는 기재에 퇴적한 탄화규소를 함유하는 퇴적물을 제거하기 위한 클리닝에 있어서, 칠불화요오드를 포함하는 클리닝 가스를 이용하는 것을 특징으로 한다. 상술한 클리닝 가스의 사용에 의해, 그라파이트를 에칭하지 않고, 탄화규소를 제거하는 것이 가능해진다.
申请公布号 KR20150116900(A) 申请公布日期 2015.10.16
申请号 KR20157025227 申请日期 2014.01.24
申请人 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 发明人 OOMORI HIROYUKI;KIKUCHI AKIOU;UMEZAKI TOMONORI
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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