由半导体晶圆支座之一平面上抽气用的环形档板;ANNULAR BAFFLE FOR PUMPING FROM ABOVE A PLANE OF THE SEMICONDUCTOR WAFER SUPPORT

摘要

一种系统和方法，用以在处理腔室中处理基板且使用气体抽出源来提供处理副产物之方位角均匀分布的抽取，该气体抽出源系在该处理腔室内之基板支座平面上方耦接于处理腔室。该处理腔室可以包含一环形充气部，其设置在支座表面平面及腔室顶部之间，该充气部包含耦接于气体抽出源之至少一个真空入口，及邻近基板支座周围之一连续的入口间隙，该连续的入口间隙具有一入口气体流阻，其约为该至少一个真空入口之出口气体流阻的二倍至二十倍。