用于改善分布均匀性之角落扰流件及应用其之遮蔽框架与处理腔室;CORNER SPOILER FOR IMPROVING PROFILE UNIFORMITY,AND SHADOW FRAME AND PROCESSING CHAMBER USING THE SAME

摘要

本揭露有关于一种角落扰流件，角落扰流件系设计以藉由改变气流来减少基板之角落区域上之高沉积率。于一实施例中，一种用于处理腔室之角落扰流件包括L形主体，以介电材料制成，其中L形主体系配置，以改变在处理腔室中之基板的角落的电浆分布。L形主体包括第一及第二脚，其中此第一及第二脚系于L形主体之内侧角落相交。第一或第二脚之长度系第一或第二脚与内侧角落之间所定义之距离的两倍。于另一实施例中，一种用于处理腔室之遮蔽框架包括具有贯穿其之矩形开孔及在矩形主体之角落耦接于矩形主体之一或多个角落扰流件。