发明名称 Chemical Vapor Deposition Apparatus
摘要 <p>본 발명은 소스가스를 공급하기 위한 샤워헤드 및 기판이 지지되는 서셉터가 설치되는 챔버, 상기 서셉터에 지지된 기판에 대응되는 크기로 형성되는 정렬홈과 상기 정렬홈에 삽입된 기판의 옆면에 접촉되는 접촉면을 포함하는 정렬기구, 상기 서셉터에 지지된 기판이 상기 정렬홈에 삽입되도록 상기 서셉터를 승하강시키는 제1승하강기구, 상기 서셉터에 지지된 기판의 제1영역을 소스가스로부터 차단하기 위한 섀도우 프레임, 및 상기 섀도우 프레임이 상기 서셉터에 지지된 기판에 접촉되거나 상기 섀도우 프레임이 상기 서셉터에 지지된 기판으로부터 이격되게 상기 샤워헤드를 승하강시키는 제2승하강기구를 포함하는 화학기상증착장치 및 이를 이용한 화학기상증착방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 여러 가지 원인으로 인해 기판이 서셉터에 정상적으로 위치되지 못하더라도, 서셉터에 위치된 기판의 상태를 정렬함으로써 기판에 박막이 정상적으로 형성되도록 할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101560132(B1) 申请公布日期 2015.10.15
申请号 KR20090125832 申请日期 2009.12.17
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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