发明名称 |
Verfahren zur Entfernung von auf einer Oberfläche einer Einrichtung gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen |
摘要 |
Verfahren zur Entfernung von auf einer Oberfläche (2) einer Einrichtung (3), welche Einrichtung (3) ein wenigstens einen organischen Bestandteil enthaltendes Fluidgemisch führt, gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen (A), wobei die auf der Oberfläche (2) der Einrichtung (3) gebildeten kohlenwasserstoffhaltigen Ablagerungen (A) mittels von wenigstens einer Schwingungserzeugungseinrichtung (9) erzeugter Schwingungen von der Oberfläche (2) der Einrichtung (3) entfernt werden. |
申请公布号 |
DE102014206820(A1) |
申请公布日期 |
2015.10.15 |
申请号 |
DE201410206820 |
申请日期 |
2014.04.09 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
FLECK, ROBERT;HARTMANN, WERNER;HERGT, MARTIN;ROHDE, KLAUS-DIETER;SPIESS, FRANZ-JOSEF |
分类号 |
B01J19/10 |
主分类号 |
B01J19/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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