マスクレスリソグラフィのためのデュアルステージ／デュアルチャック

摘要

【課題】少なくとも処理装置と少なくとも二つの独立に移動可能なステージを含む処理システムを提供する。【解決手段】少なくとも二つの独立に移動可能なステージ１３０、１３０’は、処理位置１２５とそれぞれのローディング位置１２７、１２７’の間を移動可能である。少なくとも一つの処理装置１４０は、マスクレスパターンジェネレータを含んでよい。処理システムは、処理装置１４０のアイドル時間を最小化するために、独立に移動可能なステージ１３０、１３０’の移動を命令するように構成されたコントローラ１５０を含む。【選択図】図１