| 发明名称 | 垂直磁记录介质的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及垂直磁记录介质的制造方法，所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层，且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层，该制造方法具有：粗研磨工序，该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨；镜面研磨工序，该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨；精研磨工序，该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨；和层叠工序，该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层，在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量％～0.05质量％的范围内的平均粒径为10nm～150nm的氧化锆粒子。 | ||
| 申请公布号 | CN104978979A | 申请公布日期 | 2015.10.14 |
| 申请号 | CN201510158129.X | 申请日期 | 2015.04.03 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 畑山博史 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 刘航;段承恩 |
| 主权项 | 一种垂直磁记录介质的制造方法，所述垂直磁记录介质在非磁性基板上形成有包含NiP系合金的基底镀层，而且在该基底镀层之上依次层叠有软磁性基底层、垂直磁性层，该制造方法的特征在于，具有：粗研磨工序，该工序对包含NiP系合金的基底镀层的表面进行研磨；镜面研磨工序，该工序对所述粗研磨了的基底镀层的表面进一步进行镜面研磨；精研磨工序，该工序对所述镜面研磨了的基底镀层的表面进一步进行精研磨；和层叠工序，该工序在所述精研磨了的基底镀层上层叠软磁性基底层、垂直磁性层，在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0.0005质量％～0.05质量％的范围内的平均粒径为10nm～150nm的氧化锆粒子。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||