发明名称 |
一种生物礁储层雕刻方法 |
摘要 |
本发明公开了一种生物礁储层雕刻方法,其包括:储层识别步骤,基于单井相研究,确定生物礁储层的发育层段;顶底刻画步骤,基于发育层段,根据生物礁储层的地震剖面和波阻抗剖面,对生物礁储层的顶底进行刻画;顶底约束步骤,根据生物礁储层的形态、地震相数据、沉积相分析和古地貌分析,获得生物礁储层在平面发育的有利地带,并用其约束顶底刻画,得到精细刻画的顶底;内幕结构确定步骤,基于精细刻画的顶底,通过调整可视化参数对生物礁储层进行可视化分析,得到生物礁储层的内幕结构和几何参数。本方法能够对生物礁储层内幕结构进行刻画,从而实现对生物礁储层更为全面、准确的雕刻。 |
申请公布号 |
CN104977611A |
申请公布日期 |
2015.10.14 |
申请号 |
CN201410138419.3 |
申请日期 |
2014.04.08 |
申请人 |
中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院 |
发明人 |
刘国萍;游瑜春;冯琼 |
分类号 |
G01V1/30(2006.01)I |
主分类号 |
G01V1/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 |
代理人 |
吴大建;刘华联 |
主权项 |
一种生物礁储层雕刻方法,其特征在于,所述方法包括:储层识别步骤,基于单井相研究,确定生物礁储层的发育层段;顶底刻画步骤,基于生物礁储层的发育层段,根据所述生物礁储层的地震剖面和波阻抗剖面,对所述生物礁储层的顶底进行刻画,从而确定所述生物礁储层的顶底;顶底约束步骤,根据生物礁储层的形态、地震相数据、沉积相分析和古地貌分析,获得生物礁储层在平面发育的有利地带,并用所述有利地带约束生物礁储层的顶底刻画,得到精细刻画的顶底;内幕结构确定步骤,基于精细刻画的顶底,通过调整可视化参数对所述生物礁储层进行可视化分析,得到生物礁储层的内幕结构和几何参数,实现对生物礁储层的全面雕刻。 |
地址 |
100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号 |