用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法

摘要

本发明公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。

主权项

一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台包括：支撑部分，配置成在其上表面上支撑衬底的下表面；和调节系统，配置成将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分移除热能；其中，当通过支撑部分支撑衬底时，衬底热耦合至支撑部分，使得当调节系统将热能供给至支撑部分或从支撑部分移除热能时，能量又分别从支撑部分传递至衬底或从衬底传递至支撑部分；和支撑部分、调节系统或两者配置成使得对于调节系统的操作所导致的衬底的每单位面积上的至衬底或来自衬底的热传递，在邻近衬底边缘的衬底的第一区域中的比在衬底中心处的衬底的第二区域中的大。