发明名称 |
III–V族纳米结构及其制作方法 |
摘要 |
本申请公开了一种III-V族纳米结构,包括III-V族基底以及形成于所述III-V族基底上的多孔结构,所述每个孔包括上下相通的多个六方体空间。本申请还公开了一种III-V族纳米结构的制备方法。本发明合成的III-V族三维层状多孔纳米结构材料在结构上,具备纯度高,形貌结构一致(呈六方状),层状分布明显等特点;在制备工艺上,具备反应条件温和,设备简单,工艺条件易控,而且成本低等优点,并符合实际生产的需要。该新颖结构有望应用于III-V族基的先进光学电子器件中,包括LED,生物化学传感器,太阳能电池,光学元器件等。 |
申请公布号 |
CN104973558A |
申请公布日期 |
2015.10.14 |
申请号 |
CN201410140814.5 |
申请日期 |
2014.04.10 |
申请人 |
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
发明人 |
潘革波;邓凤祥;胡立峰;赵宇 |
分类号 |
B81B1/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
B81B1/00(2006.01)I |
代理机构 |
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 |
代理人 |
王锋 |
主权项 |
一种III‑V族纳米结构,其特征在于:包括 III‑V族基底以及形成于所述III‑V族基底上的多孔结构。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号 |