发明名称 光学邻近校正方法以及优化光学邻近校正模型的方法
摘要 一种光学邻近校正方法以及优化光学邻近校正模型的方法,其中光学邻近校正方法包括:提供包括第一区域、第二区域和第三区域的衬底,第一区域和第二区域的衬底为第一材料层以及第二材料层的叠层结构,第三区域的衬底为第一材料层,且第二材料层的材料的透光率大于第一材料层的材料的透光率;提供目标图形;获取衬底第一区域、第二区域和第三区域的空间像光强函数;基于获取的空间像光强函数建立光学邻近校正模型,依据光学邻近校正模型对所述目标图形进行光学邻近校正。本发明考虑到衬底内隔离结构对曝光显影的影响,建立光学邻近校正模型,使得在衬底表面形成的最终图形与目标图形之间的差异性小,提高了形成的最终图形的质量。
申请公布号 CN104977797A 申请公布日期 2015.10.14
申请号 CN201410131227.X 申请日期 2014.04.02
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 程仁强;王辉
分类号 G03F1/36(2012.01)I 主分类号 G03F1/36(2012.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种光学邻近校正方法,其特征在于,包括:提供包括第一区域、第二区域和第三区域的衬底,所述第二区域与第一区域以及第三区域相邻接,第一区域的衬底为第一材料层以及位于第一材料层表面的第二材料层的叠层结构,第二区域的衬底为第一材料层以及位于第一材料层表面的第二材料层的叠层结构,第三区域的衬底为第一材料层,其中,在沿第二区域指向第三区域的方向上,第二区域的第二材料层厚度逐渐减小,第二区域的第一材料层的厚度逐渐增加,且第二材料层的材料的透光率大于第一材料层的材料的透光率;提供目标图形;获取衬底第一区域、第二区域和第三区域的空间像光强函数;基于所述获取的空间像光强函数建立光学邻近校正模型,依据所述光学邻近校正模型对所述目标图形进行光学邻近校正。
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