发明名称 |
PBNZT强电介质膜、溶胶凝胶溶液、成膜方法及强电介质膜的制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种可以充分地防止氧离子的缺损的PBNZT强电介质膜。本发明的PBNZT强电介质膜是由以ABO<sub>3</sub>表钙钛矿结构强电介质构成的强电介质膜,其特征在于,所述钙钛矿结构强电介质是作为A点位离子含有Pb<sup>2+</sup>、并且作为B点位离子含有Zr<sup>4+</sup>及Ti<sup>4+</sup>的PZT系强电介质,在A点位作为A点位补偿离子含有Bi<sup>3+</sup>,在B点位作为B点位补偿离子含有Nb<sup>5+</sup>。 |
申请公布号 |
CN102245513B |
申请公布日期 |
2015.10.14 |
申请号 |
CN201080001396.1 |
申请日期 |
2010.07.23 |
申请人 |
友技科株式会社 |
发明人 |
木岛健;本多祐二 |
分类号 |
C01G33/00(2006.01)I;H01L21/316(2006.01)I |
主分类号 |
C01G33/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
一种PBNZT强电介质膜,其是由包含氧离子缺损的以ABO<sub>3</sub>表示的钙钛矿结构强电介质构成的强电介质膜,其特征在于,所述钙钛矿结构强电介质是作为A点位离子含有Pb<sup>2+</sup>、并且作为B点位离子含有Zr<sup>4+</sup>及Ti<sup>4+</sup>的PZT系强电介质,在A点位作为A点位补偿离子含有Bi<sup>3+</sup>,在B点位作为B点位补偿离子含有Nb<sup>5+</sup>,所述A点位补偿离子的含量相对于所述钙钛矿结构强电介质的化学计量组成为5mol%以上10mol%以下,所述B点位补偿离子的含量相对于所述钙钛矿结构强电介质的化学计量组成为5mol%以上且低于10mol%,由所述A点位补偿离子造成的整个A点位的过剩价数与由所述B点位补偿离子造成的整个B点位的过剩价数的合计与对应于所述氧离子缺损的量的不足价数相同,或者小于该不足价数。 |
地址 |
日本国千叶县 |