| 发明名称 | 鳍式场效应管的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种鳍式场效应管的形成方法，包括：提供基底，所述基底表面形成有鳍部；采用氧化刻蚀工艺对所述鳍部的表面进行处理；对氧化刻蚀工艺处理后的鳍部表面进行湿法刻蚀。形成的鳍式场效应管的鳍部表面平坦，表面的粗糙度低，拐角处圆滑，鳍式场效应管的稳定性好。 | ||
| 申请公布号 | CN103177961B | 申请公布日期 | 2015.10.14 |
| 申请号 | CN201110430948.7 | 申请日期 | 2011.12.20 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 邓浩;张彬 |
| 分类号 | H01L21/336(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种鳍式场效应管的形成方法，其特征在于，包括：提供基底，所述基底表面形成有鳍部，所述鳍部的表面具有凹陷和凸起；采用氧化刻蚀工艺对所述鳍部的表面进行处理，包括：鳍部表面的材料与氧化刻蚀工艺采用的气体发生反应，形成鳍部凹陷处的厚度大于凸起处的厚度的中间层；刻蚀表面具有中间层的鳍部，所述鳍部凸起处的刻蚀速率高于凹陷处的刻蚀速率，其中，所述氧化刻蚀工艺采用的气体为O<sub>2</sub>和CF<sub>4</sub>的混合物，其流量的比例大于等于4:1且小于等于8:1，所述中间层的材料为SiF<sub>x1</sub>O<sub>y1</sub>或者GeF<sub>x2</sub>O<sub>y2</sub>；对氧化刻蚀工艺处理后的鳍部表面进行湿法刻蚀。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||