| 发明名称 | 镀膜件及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种镀膜件及其制备方法。该镀膜件包括金属基体及形成于金属基体表面的硬质层，该硬质层为一氮化铬-氮化硅的复合膜层。该镀膜件的制备方法包括如下步骤：提供一金属基体；采用真空溅镀法在该金属基体上溅镀硬质层，该硬质层为氮化铬-氮化硅的复合膜层；溅镀该硬质层同时开启铬靶和硅靶，以氮气为反应气体，铬靶的电源功率为1-2KW，硅靶的电源功率为10-12KW。所述的镀膜件具有高的硬度、耐磨性及耐腐蚀性。 | ||
| 申请公布号 | CN102560339B | 申请公布日期 | 2015.10.14 |
| 申请号 | CN201010584978.9 | 申请日期 | 2010.12.13 |
| 申请人 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马楠 |
| 分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人 | 彭辉剑 |
| 主权项 | 一种镀膜件，其包括金属基体及形成于金属基体上的硬质层，其特征在于：所述硬质层为一氮化铬‑氮化硅的复合膜层，所述氮化铬‑氮化硅的复合膜层中Cr的原子百分含量为10‑15at.％，Si为30‑40at.％，N为45‑60at.％。 | ||
| 地址 | 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 | ||