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<p>본 발명은 세정 주기를 연장시켜 생산성을 향상시킬 수 있도록 한 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로, 화학 기상 증착 장치는 기판을 지지하는 기판 지지부재를 가지는 챔버; 상기 챔버의 상부에 설치되고 복수의 제 1 소스 공급홀을 가지는 챔버 리드; 상기 복수의 제 1 소스 공급홀에 공정 소스를 공급하는 복수의 소스 공급관; 상기 챔버 리드에 탈착 가능하게 설치되고 상기 복수의 제 1 소스 공급홀에 대응되는 복수의 제 2 소스 공급홀을 가지는 분사관 지지부재; 및 상기 분사관 지지부재에 의해 지지되고, 상기 복수의 제 2 소스 공급홀을 통해 상기 공정 소스가 공급되는 복수의 제 3 소스 공급홀과 상기 공정 소스를 상기 기판 쪽으로 분사하는 복수의 소스 분사홀을 가지는 복수의 소스 분사관을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.</p> |
