| 主权项 |
一种量测一微影程序之参数之方法，该方法包含如下步骤：(a)使用该微影程序以形成复数个目标结构，该复数个目标结构分布于横越基板之复数个部位处且具有横越该等目标结构而分布的具有一数目个不同叠对偏置值(overlay bias values)之在一第一方向上或在一第二方向上的经叠对周期性结构(overlaid periodic structures)，该等目标结构中至少一些包含数目少于不同叠对偏置值之该数目的经叠对周期性结构，其中在该第一方向上的该等经叠对周期性结构与在该第二方向上的该等经叠对周期性结构系以一交替图案(alternating pattern)而彼此穿插(interspersed)；(b)照明该等目标结构且侦测由该等目标结构散射之辐射之不对称性；(c)使用该等经侦测不对称性以判定该等参数。
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