| 发明名称 |
镀层形成用组成物以及具有金属膜之积层体的制造方法 |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
TWI503383 |
申请公布日期 |
2015.10.11 |
| 申请号 |
TW100149064 |
申请日期 |
2011.12.28 |
| 申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
塚本直树 |
| 分类号 |
C09D4/00;C09D7/12;H05K3/18;H05K3/38 |
主分类号 |
C09D4/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种镀层形成用组成物，其包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物：
(式(1)中，R10表示氢原子、金属阳离子、或四级铵阳离子；L10表示单键、或二价有机基；R11~R13分别独立表示氢原子、或经取代或未经取代的烷基；n表示1或2)。 |
| 地址 |
日本 |
