| 发明名称 | 腔室组件与包含其之金属有机化合物化学气相沉积设备 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI503869 | 申请公布日期 | 2015.10.11 |
| 申请号 | TW100144809 | 申请日期 | 2011.12.06 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 周卫国 |
| 分类号 | H01L21/205;C23C16/46 | 主分类号 | H01L21/205 |
| 代理机构 | 代理人 | 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 | |
| 主权项 | 一种金属有机化合物化学气相沉积设备，其包括：一腔室组件，该腔室组件包括：一腔室外筒，该腔室外筒围绕形成一外筒腔；一感应线圈，该感应线圈环绕于该腔室外筒的外侧设置；以及一石墨套筒，该石墨套筒套设在该腔室外筒的外筒腔内，且该石墨套筒为中空圆柱形；多层托盘，该多层托盘沿该腔室组件的外筒腔的轴向间隔设置在反应腔内。 | ||
| 地址 | 中国 | ||