发明名称 |
狭缝喷嘴、基板处理装置及狭缝喷嘴的制造方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI503178 |
申请公布日期 |
2015.10.11 |
申请号 |
TW103107326 |
申请日期 |
2014.03.05 |
申请人 |
斯克林集团公司 |
发明人 |
平井孝典;高木善则 |
分类号 |
B05B1/28;B05B15/00;B05C5/02 |
主分类号 |
B05B1/28 |
代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;郑婷文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;詹富闵 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
主权项 |
一种狭缝喷嘴,在所述狭缝喷嘴的下部包含狭缝状的喷出口,自所述喷出口喷出处理液,所述狭缝喷嘴的特征在于包括:喷嘴本体部,包括将处理液引导至所述喷出口的送液路径;喷嘴盖部,与所述喷嘴本体部贴合,且所述喷嘴盖部与所述喷嘴本体部一并对所述喷出口的沿长边方向的开口缘进行规定;垫片,夹于所述喷嘴本体部与所述喷嘴盖部之间,对所述喷出口的宽度进行规定;一对侧板,安装于所述喷嘴本体部及所述喷嘴盖部的两端,对所述喷出口的沿宽度方向的开口缘进行规定;以及堵塞部,对漏出流路进行堵塞,所述漏出流路是产生于所述垫片与所述侧板之间的处理液的漏出流路。 |
地址 |
日本 |