| 发明名称 |
蚀刻液组成物 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI503401 |
申请公布日期 |
2015.10.11 |
| 申请号 |
TW100144791 |
申请日期 |
2011.12.06 |
| 申请人 |
ＡＤＥＫＡ股份有限公司 |
发明人 |
井上健太 |
| 分类号 |
C09K13/06;C09K13/08;H01L21/306 |
主分类号 |
C09K13/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
| 主权项 |
一种金属氧化物被膜之蚀刻液组成物，系由含有下述成分的水溶液所构成：(A)2-羟基乙磺酸或其盐依2-羟基乙磺酸换算为7~12质量%；(B)从氟化钾、氟化钠及氟化锂所构成群组中选择之至少1种氟化化合物0.1~5质量%；以及其余为水。
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| 地址 |
日本 |
