| 发明名称 |
光敏染料及其应用 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI503320 |
申请公布日期 |
2015.10.11 |
| 申请号 |
TW099143652 |
申请日期 |
2010.12.14 |
| 申请人 |
中央研究院 |
发明人 |
吕光烈;林宏洲;殷任甫 |
| 分类号 |
C07D471/14;C07F15/00;H01L31/0224;H01L31/042 |
主分类号 |
C07D471/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
郭雨岚 台北市大安区仁爱路3段136号13楼;林发立 台北市大安区仁爱路3段136号13楼 |
| 主权项 |
一种下式(I)所示之钌错合物
其中，X1系为氧、硫或硒；X2系为氢；m=2-3；Y1，Y2及Y3系各自独立选自氢、CnH2n+1或其中n=1-15，A2=CpH2p+1，p=1-15；及Z1及Z2系各自独立选自-COORd或-PO3HRd；其中Rd系选自氢或硷金属离子。 |
| 地址 |
台北市南港区研究院路2段128号 |
