发明名称 包含一场效电晶体于一覆矽的绝缘层构造的半导体装置
摘要
申请公布号 TWI503979 申请公布日期 2015.10.11
申请号 TW100113780 申请日期 2011.04.20
申请人 S O I TEC绝缘层上矽科技公司 发明人 马哲 克劳斯;费兰特 理察;阮 比希 耶
分类号 H01L29/78;H01L21/31 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 陈展俊 台北市大安区和平东路2段203号4楼之2;林圣富 台北市大安区和平东路2段203号4楼之2
主权项 一种半导体元件,包含一种覆半导体的绝缘层(SeOI)结构,特别是一种覆矽的绝缘层(SOI)结构,其包含一基材、该基材上之一氧化层以及该氧化层上之一半导体层;其具有一场效应电晶体(FET),其中该FET包含:该基材中之一通道区;一介电层,其至少部分为该覆半导体的绝缘层结构之该氧化层之一部分;以及一闸极,其至少部分为该覆半导体的绝缘层之该半导体层之一第一部分;其更包含另一FET,其包含一通道区及由该覆半导体的绝缘层结构之该半导体层之一第二部分所形成之源极及汲极区;且其中该SeOI结构之该半导体层之该第一部分以及该SeOI结构之该半导体层之该第二部分至少部分重合。
地址 法国