| 主权项 |
一种设备，包括：一第一腔室主体与第二腔室主体，该第一与第二腔室主体具有数个腔室壁；一反应性产物舟，耦接至该第二腔室主体；一第一反应性产物源，配置于该反应性产物舟中；一第二反应性源，配置于该反应性产物舟中；一第一加热元件，耦接至该反应性产物舟；一第三反应性源，耦接至该第一腔室主体且配置于该反应性产物舟外；一第二加热元件，嵌于该第一腔室主体之该些腔室壁中；一气体分配元件，配置于该第一腔室主体中且与该第三反应性源耦接；一基座，配置于该第一腔室主体中且与该气体分配元件相对；及一或多个第三加热元件，配置于该基座下方；一第一气体环，在该基座外沿着该些腔室壁周围配置于该第一腔室主体中，且该第一气体环耦接至该第一反应性产物与该第二反应性产物两者；及一第二气体环，耦接至该第一气体环，该第二气体环具有复数个开口穿过其中，以允许气体进入该第一腔室主体。
|
