发明名称 曝光装置及装置制造方法
摘要
申请公布号 TWI503633 申请公布日期 2015.10.11
申请号 TW099120065 申请日期 2010.06.21
申请人 尼康股份有限公司 发明人 一之濑刚
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈传岳 台北市大安区仁爱路3段136号13楼;郭雨岚 台北市大安区仁爱路3段136号13楼
主权项 一种曝光装置,其经由被第一支撑构件所支撑之光学系统,而藉由能量光束将物体曝光,且具备:移动体,其系保持前述物体,并可沿着指定之二维平面移动;引导面形成构件,其系形成前述移动体沿着前述二维平面移动时之引导面;第一驱动系统,其系驱动前述移动体;第二支撑构件,其系相对于前述引导面形成构件,配置于与前述光学系统所配置侧之相反侧,从前述引导面形成构件离开,而与前述第一支撑构件相分离;第一计测系统,其系:包含第一计测构件,前述第一计测构件系在设于前述移动体与前述第二支撑构件之一方而与前述二维平面平行之计测面上照射计测光束,并接收来自前述计测面之光,前述第一计测构件之至少一部分系设于前述移动体与前述第二支撑构件之另一方,且使用该第一计测构件之输出求出前述移动体至少在前述二维平面内之位置资讯;及第二计测系统,其系求出前述第二支撑构件之位置资讯。
地址 日本