发明名称 SUBSTRATE HEAT TREATMENT APPARATUS
摘要 본 발명은 고온에서도 열 팽창에 기인한 구성 부재들의 파손을 줄이고 높은 속도에서 균일하게 기판을 가열할 수 있는 기판 열처리 기구를 제공한다. 본 발명의 실시예는 기판에 열처리를 수행하기 위한 기판 열처리 기구이며, 기판을 지지할 수 있는 주변부 링(4); 연결 링(6); 주변부 링(4)을 승강 및 하강하는 부양 장치(20); 주변부 링(4)보다 낮은 열전도율를 갖는 볼들(12); 및 주변부 링(4)에 의해 지지되는 기판을 가열하기 위한 램프(11)를 포함한다. 볼들(12)은 주변부 링(4) 및 연결 링(6) 모두로부터 다른 부재들이다. 부양 장치(20)는 램프(11)에 근접한 제1 위치와 램프(11)와 떨어진 제2 위치 사이에서 주변부 링(4)을 승강 및 하강시킨다.
申请公布号 KR101559022(B1) 申请公布日期 2015.10.08
申请号 KR20137018628 申请日期 2010.12.21
申请人 캐논 아네르바 가부시키가이샤 发明人 오카다 타쿠지;나카자와 토시카즈;스즈키 나오유키
分类号 H01L21/26;H01L21/324 主分类号 H01L21/26
代理机构 代理人
主权项
地址