アルミナで構成される装置の表面層を処理する方法、及び当該方法に対応する装置、特にＸ線管の部品

摘要

アルミナで構成される装置(1)の表面層を処理する方法及び対応する装置が提案される。当該方法は、当該装置(1)に露出した被処理表面層(3)を供する工程、及び、たとえば不活性ガス、窒素、水素、アルゴン、及びそれらの混合気体を含む酸素欠乏雰囲気中の当該装置(1)の表面層(3)を、好適には2時間よりも長い期間、1000℃よりも高い温度に加熱する工程−好適には1700℃よりも高い温度−を含む。係る処理のため、前記表面層(3)中に含まれる表皮層領域(7)は、顕著に減少した電気抵抗を得ることができる。前記顕著に減少した電気抵抗は、この表皮層領域(7)を化学的に還元した結果であると推測される。そのように減少した電気抵抗は、たとえば電子ビーム装置の部品−たとえばX線管の部品−中でチャージアップを防止する役割を果たす。