用于处理气态介质的装置和方法以及该装置用于处理气态介质、液体、固体、表面或其任意组合的应用

摘要

根据本发明的用于处理气态介质的装置，在气态介质的流向上包括用于在气态介质中生成等离子体的等离子体生成装置。等离子体特别包括受激分子、自由基、离子、自由电子、光子及其任意组合。此外，根据本发明的装置包括至少一个介电结构，特别是至少一个熔凝硅管。等离子体是可输送至至少一个介电结构中的，特别是在等离子体生成装置中生成之后。

主权项

用于处理气态介质的装置(1)，其中在气态介质的流向上，所述装置(1)包括：—用于在气态介质中生成等离子体(21)的等离子体生成装置(2)，—形成为至少一个熔凝硅管的至少一个介电结构(3)，其特征在于，将所述等离子体输送至至少一个介电结构(3)中，所述装置还包括，在位于至少一个介电结构(3)下游的气态介质的流向上，具有内部空间(11)的相互作用腔室(10)，所述内部空间(11)具有至少一个壁(12)，其中，所述至少一个壁(12)在所述内部空间侧面上至少显示部分的金刚石涂层(13)。