用于改善产量的电子束光刻系统和方法

摘要

公开了用于改善产量的电子束光刻方法和装置。示例性光刻方法包括：接收具有图案布局尺寸的图案布局；缩小图案布局尺寸；以及材料层按缩小的图案布局尺寸过度曝光，从而在材料层上形成具有图案布局尺寸的图案布局。

主权项

一种光刻方法，包括：接收具有至少一个部件的图案布局；确定所述至少一个部件的尺寸大于阈值尺寸；将所述至少一个部件变换为偏移部件，所述偏移部件具有多个子部件；缩小或偏移所述多个子部件以降低所述图案布局的图案密度；以及根据所述偏移部件对能量感应材料层进行写操作，从而在所述能量感应材料层中形成所述至少一个部件，以及其中，所述写操作是没有光掩模的直接写操作。