| 摘要 |
대면적 기재 위에 도포된 광경화성 수지에 대하여 광투과형 임프린트용 몰드를 대고 누른 상태에서, 투명기재의 요철패턴을 재현하게 설치된 차광부재(5)에 의해 경화되는 차광영역의 광경화성 수지에 조사되는 광량이, 그 이외의 투광영역에 있는 광경화성 수지에 조사되는 광량보다도 적어지도록 광경화성 수지에 대하여 경화광을 조사하고, 차광영역에 있는 광경화성 수지를 반경화(9b)시키는 노광 공정과, 노광 공정 후에 몰드를 광경화성 수지로부터 이탈시키는 이탈 공정과, 다음으로, 몰드의 투광영역의 끝단이 반경화된 광경화성 수지(9b) 위에 위치하게 몰드를 이동시키는 이동 공정과, 이동 후의 위치에서 노광 공정과 이탈 공정을 실시하는 반복 공정을 구비하는 임프린트 방법. |
