发明名称 |
一种抗总剂量屏蔽涂层材料的制备与涂敷方法 |
摘要 |
本发明公开了一种抗总剂量屏蔽涂层材料的制备与涂敷方法,具体包括如下步骤:将高原子序数材料与高分子聚合物混合均匀得混合涂料A;将低原子序数材料与高分子聚合物混合均匀得混合涂料B;先将混合涂料A涂敷在器件壳表层,形成高原子序数材料层,然后在所述高原子序数材层表面涂敷料混合涂料B,形成低原子序数材料层,即可。本发明通过对抗总剂量涂层材料的制备和在产品的机壳内壁上涂敷方法,使得涂层能够经受航天器的发射段和在轨空间环境的考核,该涂层使得涂敷后产品在抗空间辐射环境总剂量能力方面有较大的提高。 |
申请公布号 |
CN104962128A |
申请公布日期 |
2015.10.07 |
申请号 |
CN201510314078.5 |
申请日期 |
2015.06.09 |
申请人 |
上海卫星工程研究所 |
发明人 |
李强;靳浩;廖明;谷涛;林小艳;陶强 |
分类号 |
C09D7/12(2006.01)I;C09D183/04(2006.01)I;C09D175/04(2006.01)I;C09D123/06(2006.01)I;C09D163/00(2006.01)I;C09D179/08(2006.01)I;B05D5/00(2006.01)I |
主分类号 |
C09D7/12(2006.01)I |
代理机构 |
上海汉声知识产权代理有限公司 31236 |
代理人 |
郭国中 |
主权项 |
一种抗总剂量屏蔽涂层材料的制备与涂敷方法,其特征在于,具体包括如下步骤:将高原子序数材料与高分子聚合物混合均匀得混合涂料A;将低原子序数材料与高分子聚合物混合均匀得混合涂料B;先将混合涂料A涂敷在器件壳内壁表层,形成高原子序数材料层,然后在所述高原子序数材料层表面涂敷混合涂料B,形成低原子序数材料层,即可。 |
地址 |
200240 上海市闵行区华宁路251号 |