| 发明名称 | 粒子射线治疗装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于得到一种能抑制泄漏剂量的影响的粒子射线治疗装置。包括：照射头(21)，该照射头(21)使从加速器(1)射出的粒子射线(B)向规定方向照射；照射控制部(42)，该照射控制部(42)对照射头(21)的动作进行控制，以分别对设定在照射对象(TC)内的平面方向(A<sub>SS</sub>)内的多个束点(SP)依次照射规定剂量的粒子射线(B)；以及控制部(4)，该控制部(4)对来自加速器(1)的粒子射线(B)的射出进行开启/关闭控制；在从将射出从开启切换为关闭的时刻(T<sub>F</sub>)起的规定期间(PW)内，或者在粒子射线(B)被遮断之前的期间内，照射控制部(42)利用照射头(21)来使粒子射线(B)向照射对象(TC)内的规定范围(A<sub>P</sub>)内进行稀释扫描。 | ||
| 申请公布号 | CN103200993B | 申请公布日期 | 2015.10.07 |
| 申请号 | CN201180053865.9 | 申请日期 | 2011.03.10 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 本田泰三;池田昌广;蒲越虎;花川和之 |
| 分类号 | A61N5/10(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 张鑫 |
| 主权项 | 一种粒子射线治疗装置，包括：加速器，该加速器将粒子射线加速并射出；照射头，该照射头具有扫描方向不同的两个电磁铁，并将从所述加速器射出的粒子射线向规定方向照射；照射控制部，该照射控制部对所述照射头的动作进行控制，以分别对设定在照射对象内的平面方向上的多个束点依次照射规定剂量的粒子射线；以及控制部，该控制部对来自所述加速器的粒子射线的射出进行开启/关闭控制，在从将所述粒子射线的射出从开启切换成关闭的时刻起的规定期间内，或者在粒子射线被遮断之前的期间内，所述照射控制部使用所述照射头，来向设置在所述照射对象内的平面方向上的规定范围内扫描所述粒子射线，以稀释剂量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||