发明名称 SILVER CONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
摘要 <p>플렉소 인쇄에 의해 평균 입경 20㎚ 이하의 은 입자 50∼70질량%를 포함하는 은 입자 분산액을 기판에 도포한 후에 소성함으로써, 10∼50체적%의 은 입자의 소결체를 포함하고, 또한 체적 저항률이 3∼100μΩ·㎝이며, 표면 저항률이 0.5Ω/□ 이하이며, 두께가 1∼6㎛인 은 도전막을 제조하여, 전기 특성 및 굴곡성이 우수한 IC 태그용 안테나 등의 도전 회로를 저렴하게 대량 생산 가능한 은 도전막을 제공한다.</p>
申请公布号 KR20150113098(A) 申请公布日期 2015.10.07
申请号 KR20157023310 申请日期 2013.02.01
申请人 DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD. 发明人 FUJITA HIDEFUMI;KONNO SHINICHI;SATO KIMITAKA;UEYAMA TOSHIHIKO
分类号 H01Q1/22 主分类号 H01Q1/22
代理机构 代理人
主权项
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