电子束快速成型设备特征点数据采集装置及方法

摘要

本发明公开一种电子束快速成型设备特征点数据采集装置及方法，利用二次反射电子流最小，或利用穿越电子束流最大，或利用两信号的拓展组合来判断电子束斑的精确位置及聚焦的方法，从而实现电子束快速成型设备特征点数据采集与建立。本发明能够快速地、精确地建立特征点偏移和聚焦电流数据。

主权项

电子束快速成型设备特征点数据采集装置，其特征是，包括置于真空工作室(3)内的测试板(3‑1)、二次反射电子收集装置(3‑2)和二次反射电子流检测电阻(3‑3)，以及置于真空工作室(3)外的对中信号变送器(8)和对中信号指示器(9)；测试板(3‑1)由金属板制成，测试板(3‑1)上标定偏扫区域，并对偏扫区域按一定规律分区，以各特征点为圆心，开钻特征点通孔，该特征点通孔的孔径与电子束流的斑点直径相当；测试板(3‑1)与真空工作室(3)壁电气相接即接地；二次反射电子收集装置(3‑2)位于测试板(3‑1)的上方，电子束快速成型设备的电子枪(1)发出的电子束(2)直接穿过二次反射电子收集装置(3‑2)到达测试板(3‑1)；电子束流参数一定时，电子束斑在测试板(3‑1)某一特征点附近移动，二次反射电子收集装置(3‑2)收集到的二次反射电子流发生变化，当电子束斑位于特征点正中，且电子束斑的焦点位于测试板(3‑1)上表面时，二次反射电子收集装置(3‑2)的二次反射电子流最小；二次反射电子收集装置(3‑2)通过二次反射电子流检测电阻(3‑3)与真空工作室(3)壁电气相接即接地；二次反射电子流检测电阻(3‑3)将二次反射电子收集装置(3‑2)收集到的二次反射电子流转换成电压信号；该电压信号作为电子束斑与特征点对中判断信号，被送到对中信号变送器(8)；对中信号变送器(8)将二次反射电子流检测电阻(3‑3)上的电压信号放大后送到对中信号指示器(9)；对中信号指示器(9)显示对中信号变送器(8)送来的电压信号，在对x轴偏移电流、y轴偏移电流及聚焦电流进行微调的过程中，电子束斑在某特征点附近移动，当对中信号指示器(9)显示的电压信号值为最小时，判定对中检测信号达到最佳，此时电子束斑点中心与该特征点中心重合，且焦点位于测试板(3‑1)的上平面。