| 摘要 |
본 발명은 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버로 가스를 공급하는 가스 감압 공급 장치가 제공된다. 이 가스 감압 공급 장치는 1차압을 감압하고, 대기압보다도 낮고 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 2차압을 조정하는 압력 조정기; 압력 조정기의 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 압력 측정기; 2차측 배관에 설치되는 제1 개폐 밸브; 제1 개폐 밸브를 개폐하는 개폐 밸브 제어기; 압력 측정기에 의해 측정되는 2차측 배관 내의 압력을 제1 설정 압력과 비교하는 압력 비교기; 및 2차측 배관 내의 압력이 제1 설정 압력 이하라고 압력 비교기에 의해 판정된 경우에, 제1 개폐 밸브를 폐지하는 폐지 신호를 개폐 밸브 제어기로 출력하는 제어부를 구비한다. |
