发明名称 CARRIER FOR DOUBLE-SIDE POLISHING APPARATUS AND DOUBLE-SIDE POLISHING METHOD FOR WAFER
摘要 <p>본 발명은, 양면연마장치에 있어서, 연마포가 각각 첩부된 상하정반 사이에 배설되고, 연마시에 상기 상하정반 사이에 끼워진 웨이퍼를 유지하기 위한 유지구멍이 형성된 양면연마장치용 캐리어로서, 그 캐리어의 상하의 주표면부는, 순티탄에 β안정화원소를 0.5중량% 이상 함유시킨 β형 티탄합금으로 구성된 것을 특징으로 하는 양면연마장치용 캐리어이다. 이에 따라, 내마모성이 우수하고, 비용을 저감할 수 있는 양면연마용 캐리어가 제공된다.</p>
申请公布号 KR20150111930(A) 申请公布日期 2015.10.06
申请号 KR20157020461 申请日期 2013.12.19
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;B24B37/28;H01L21/306 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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