Composition for photoresist stripper

摘要

본 발명은 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 알킬렌글리콜 t-부틸 에테르계 화합물을 2종 이상 포함하여, 포토레지스트의 제거속도가 매우 뛰어나고 절연체 손상을 최소화 할 수 있는 포토레지스트 박리액 조성물에 관한 것이다.