发明名称 |
METHOD OF FORMING REFLECTION ENHANCING FILM AND REFLECTION ENHANCING FILM FORMED THEREBY |
摘要 |
<p>【課題】基材の形状が凹型であっても、均一な反射率を生じさせる。【解決手段】増反射膜12の形成方法は、凹型形状を有する基材11上に金属からなる第一層13を成膜し、第一層13の上に低屈折率物質から成る第二層14及び高屈折率物質から成る第三層15を順に成膜してなる。第一層13をドライコーティング法によって成膜し、第二層14及び第三層15をウェットコーティング法によって成膜する。具体的には、真空蒸着法によりアルミニウム又は銀から成る第一層13を基材11上に成膜し、SiO2又はMgF2の原料物質を含む塗布液に第一層が形成された基材を浸漬し引き上げた後に大気圧中で加熱して焼成または乾燥させることにより第一層13の上に第二層14を成膜し、TiO2又はNb2O5の原料物質を含む塗布液に第二層が形成された基材11を浸漬し引き上げた後に大気圧中で加熱して焼成または乾燥させて第二層の上に第三層15を成膜する。【選択図】 図1</p> |
申请公布号 |
JP2015175864(A) |
申请公布日期 |
2015.10.05 |
申请号 |
JP20140049714 |
申请日期 |
2014.03.13 |
申请人 |
IWASAKI ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
YONEYAMA NAOTO |
分类号 |
G02B5/08;C23C14/14;G02B5/10 |
主分类号 |
G02B5/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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